Pesos pesados instan al Gobierno de China a crear «la ASML china» para eliminar el cuello de botella en semiconductores

Hoy conocemos que los principales directivos del sector de semiconductores en China han lanzado un mensaje bastante claro al Gobierno: si China quiere romper el cuello de botella que supone acceder a la litografía avanzada, necesita crear su propia ASML. En concreto, los directivos instan a modificar los planes actuales. Es decir, pasar de esfuerzos dispersos a una ofensiva coordinada a escala nacional para construir algo equivalente a “la ASML china”. La petición llega en un momento en el que Pekín refuerza su agenda de autosuficiencia tecnológica, con el pulso con Estados Unidos como telón de fondo.

Alguno de los pesos pesados detrás de este mensaje son Zhao Jinrong (Naura Technology), Chen Nanxiang (YMTC) y Liu Weiping (Empyrean Technology), junto a los institutos más punteros del país. Para tener un contexto, Naura Techonology es el mayor fabricante de equipos para semiconductores de China. YMTC es ya muy probable que sí lo conozcas, pues es uno de los mayores fabricantes de memoria de China junto a CXMT. Terminamos con Empyrean Technology, empresa líder en desarrollo, venta y servicios de herramientas de automatización de diseño electrónico (EDA).

La industria pide al Gobierno chino que concentre los recursos para tener su propia ASML

En la petición, publicada por la revista Science and Technology Review, los autores piden al Gobierno que concentre recursos y orqueste la integración de avances dispersos entre distintas instituciones, con el objetivo explícito de contar con sistemas de litografía operativos durante el periodo de 2026 a 2030.

El núcleo del argumento se centra en la litografía. Se indica que el reto no es solo inventar una pieza clave, sino lograr que todo el sistema funcione como un producto industrial fiable. Para ilustrarlo, la industria china pone como ejemplo a ASML y su maquinaria EUV. Estas máquinas tienen un ensamblaje enormemente complejo, con decenas de miles de componentes procedentes de miles de proveedores. Por lo que el valor diferencial es la capacidad de actuar como integrador de todo el ecosistema. Desde esa perspectiva, el gran salto para China no sería únicamente mejorar en láseres, óptica o etapas de oblea, sino resolver la integración del conjunto como un sistema completo.

Para los autores, China ya habría logrado progresos relevantes en áreas concretas relacionadas con EUV. En concreto, se mencionan las fuentes láser, la etapa de oblea y sistemas ópticos. Ahora bien, convertir esos logros parciales en una herramienta operativa sigue siendo el gran obstáculo, y lo sitúan como un problema a resolver durante el 15º Plan Quinquenal. Este plan es la hoja de ruta estratégica que guiará el desarrollo económico, tecnológico y social de China. Su enfoque principal es la autosuficiencia tecnológica, la innovación de alto nivel y el desarrollo de nuevas fuerzas productivas de calidad, como la IA, tecnología cuántica y energía verde.

Para convertirse en ASML hay otros puntos débiles aún por resolver

Los autores destacan que, sin esta coordinación estatal, únicamente verán frenado cualquier avance independiente. Desde el software EDA (diseño electrónico), y materiales básicos como obleas de silicio, hasta suministros críticos. Entre los que se mencionan los gases de ultra alta pureza (nitrógeno, argón, hidrógeno, helio, etc.).

El toque de atención de estos ejecutivos encaja con el giro más amplio. China está impulsando la tecnología (particularmente la IA) al rango de prioridad nacional para mejorar su productividad, competitividad y seguridad económica en base a este Plan Quinquenal de 2026–2030. En paralelo, desde instancias oficiales también se viene insistiendo en el impulso de nuevas industrias pilar donde encajan los circuitos integrados.

Por último, los autores subrayaron un dato que sirve tanto de colchón como de contraste. China mantiene una posición dominante en nodos o procesos de fabricación maduros. Se indica que la capacidad de producción en 28 nm y superiores representaría alrededor del 33% de la capacidad global, un terreno donde, a diferencia de los procesos de fabricación de vanguardia, el país sigue pudiendo producir y diseñar sin las mismas restricciones. Aun así, el mensaje de fondo es que dominar la litografía de vanguardia (EUV) exige una estrategia de proyecto nacional, y no solo mejoras incrementales. Donde cada compañía intenta avanzar por si sola en su campo.